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美國宣布撥款16億美元,激勵先進(jìn)封裝研發(fā)

  • 當地時(shí)間周二,美國商務(wù)部發(fā)表官方聲明,宣布將撥款高達16億美元用于加速?lài)鴥劝雽w先進(jìn)封裝的研發(fā)。此舉是美國政府2023年公布的國家先進(jìn)封裝制造計劃NAPMP的一部分。聲明中稱(chēng),該筆資金來(lái)源于2022年《芯片與科學(xué)法案》520億美元授權資金的一部分,重點(diǎn)支持企業(yè)在芯片封裝新技術(shù)領(lǐng)域進(jìn)行創(chuàng )新。美國政府計劃通過(guò)獎勵金的形式向先進(jìn)封裝領(lǐng)域的創(chuàng )新項目提供每份不超過(guò)1.5億美元的激勵。且項目需與以下五個(gè)研發(fā)領(lǐng)域中的一個(gè)或多個(gè)相關(guān):1、設備、工具、工藝、流程集成;2、電力輸送和熱管理;3、連接器技術(shù),包括光子學(xué)和射頻;
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曾號稱(chēng)碾壓英偉達!壁仞科技:?jiǎn)蝹€(gè)國產(chǎn)AI芯片不強但數量多、軟件加持就不一樣了

  • 7月10日消息,近日,壁仞科技副總裁兼AI軟件首席架構師丁云帆在談及計算瓶頸時(shí)表示,解決算力瓶頸問(wèn)題需要從三個(gè)維度考慮:硬件集群算力、軟件有效算力、異構聚合算力。他認為,做好這三個(gè)維度的工作,即使國產(chǎn)AI芯片單個(gè)算力不強,也能通過(guò)綜合手段提升算力,滿(mǎn)足國內大模型訓練的需求?!拔覀?020年設計的第一代產(chǎn)品里就做了chiplet架構,國外巨頭在今年發(fā)布的產(chǎn)品如英偉達B100和英特爾Gaudi 3也采用了同樣的思路,他們用最先進(jìn)的制程,但也需要chiplet來(lái)突破摩爾定律限制來(lái)提升單卡算力?!倍≡品f(shuō)道。據他
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內存制造技術(shù)再創(chuàng )新,大廠(chǎng)新招數呼之欲出

  • 制造HBM難,制造3D DRAM更難。
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鎧俠公布藍圖:2027年實(shí)現1000層3D NAND堆疊

  • 近日,據媒體報道,日本存儲芯片廠(chǎng)商鎧俠公布了3D NAND閃存發(fā)展藍圖,目標2027年實(shí)現1000層堆疊。鎧俠表示,自2014年以來(lái),3D NAND閃存的層數經(jīng)歷了顯著(zhù)的增長(cháng),從初期的24層迅速攀升至2022年的238層,短短8年間實(shí)現了驚人的10倍增長(cháng)。鎧俠正是基于這種每年平均1.33倍的增長(cháng)速度,預測到2027年達到1000層堆疊的目標是完全可行的。而這一規劃較此前公布的時(shí)間早了近3年,據日本媒體今年4月報道,鎧俠CTO宮島英史在71屆日本應用物理學(xué)會(huì )春季學(xué)術(shù)演講會(huì )上表示,公司計劃于2030至2031
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SK海力士5層堆疊3D DRAM新突破:良品率已達56.1%

  • 6月25日消息,據媒體報道,SK海力士在近期于美國夏威夷舉行的VLSI 2024峰會(huì )上,重磅發(fā)布了關(guān)于3D DRAM技術(shù)的最新研究成果,展示了其在該領(lǐng)域的深厚實(shí)力與持續創(chuàng )新。據最新消息,SK海力士在3D DRAM技術(shù)的研發(fā)上取得了顯著(zhù)進(jìn)展,并首次詳細公布了其開(kāi)發(fā)的具體成果和特性。公司正全力加速這一前沿技術(shù)的開(kāi)發(fā),并已取得重大突破。SK海力士透露,目前其5層堆疊的3D DRAM良品率已高達56.1%,這一數據意味著(zhù)在單個(gè)測試晶圓上,能夠成功制造出約1000個(gè)3D DRAM單元,其中超過(guò)一半(即561個(gè))為良
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西門(mén)子推出Calibre 3DThermal軟件,持續布局3D IC市場(chǎng)

  • ●? ?Calibre 3DThermal?可為?3D IC?提供完整的芯片和封裝內部熱分析,幫助應對從芯片設計和?3D?組裝的早期探索到項目?Signoff?過(guò)程中的設計與驗證挑戰●? ?新軟件集成了西門(mén)子先進(jìn)的設計工具,能夠在整個(gè)設計流程中捕捉和分析熱數據西門(mén)子數字化工業(yè)軟件近日宣布推出?Calibre??3DThermal?軟件,可針對?3D?
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邁向 3D 內存:三星電子計劃 2025 年完成 4F2 VCT DRAM 原型開(kāi)發(fā)

  • IT之家 5 月 21 日消息,綜合韓媒 ZDNet Korea 和 The Elec 報道,三星電子執行副總裁 Lee Siwoo 在本月舉行的 IEEE IMW 2024 研討會(huì )上表示該企業(yè)計劃在明年推出 4F2 VCT DRAM 原型。目前 3D DRAM 領(lǐng)域商業(yè)化研究集中在兩種結構上:一種是 4F2 VCT(IT之家注:Vertical Channel Transistor,垂直通道晶體管) DRAM;另一種是 VS-CAT(Vertical Stacke
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SK海力士試圖用低溫蝕刻技術(shù)生產(chǎn)400多層的3D NAND

  • 在-70°C 下工作的蝕刻工具有獨特的性能。
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5G加速 聯(lián)電首推RFSOI 3D IC解決方案

  • 聯(lián)電昨(2)日所推出業(yè)界首項RFSOI 3D IC解決方案,此55奈米RFSOI制程平臺上所使用的硅堆棧技術(shù),在不損耗射頻(RF)效能下,可將芯片尺寸縮小逾45%,聯(lián)電表示,此技術(shù)將應用于手機、物聯(lián)網(wǎng)和AR/VR,為加速5G世代鋪路,且該制程已獲得多項國際專(zhuān)利,準備投入量產(chǎn)。 聯(lián)電表示,RFSOI是用于低噪聲放大器、開(kāi)關(guān)和天線(xiàn)調諧器等射頻芯片的晶圓制程。隨著(zhù)新一代智能手機對頻段數量需求的不斷增長(cháng),聯(lián)電的RFSOI 3D IC解決方案,利用晶圓對晶圓的鍵合技術(shù),并解決了芯片堆棧時(shí)常見(jiàn)的射頻干擾問(wèn)題,將裝置中
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聯(lián)電:3D IC解決方案已獲得客戶(hù)采用,預計今年量產(chǎn)

  • 近日,晶圓代工大廠(chǎng)聯(lián)電舉行法說(shuō)會(huì ),公布2024年第一季財報,合并營(yíng)收546.3億元新臺幣,較2023年第四季549.6億元新臺幣減少0.6%,較2023年第一季542.1億元新臺幣成長(cháng)0.8%。第一季毛利率達30.9%,歸屬母公司凈利104.6億元新臺幣。聯(lián)電共同總經(jīng)理王石表示,由于電腦領(lǐng)域需求回升,第一季晶圓出貨量較2023年第四季成長(cháng)4.5%。盡管產(chǎn)能利用率微幅下降至65%,成本控管及營(yíng)運效率提升,仍維持相對穩健獲利。電源管理芯片、RFSOI芯片和人工智能AI服務(wù)器矽中介層需求推動(dòng)下,特殊制程占總營(yíng)收
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如何減少光學(xué)器件的數據延遲

  • 光子學(xué)和電子學(xué)這兩個(gè)曾經(jīng)分離的領(lǐng)域似乎正在趨于融合。
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Zivid最新SDK 2.12:捕獲透明物體,最先進(jìn)的點(diǎn)云

  • Zivid最新SDK2.12正式發(fā)布,是對我們3D視覺(jué)相機的一次絕佳更新。本次發(fā)布中,我們全新的Omni Engine有了更驚人的性能提高。Omni v2提供了更長(cháng)的工作距離,速度更快,點(diǎn)云質(zhì)量更好,特別是在透明物體上。升級要點(diǎn)· Omni Engine v.2我們用于捕捉透明度的最先進(jìn)的3D技術(shù)已經(jīng)獲得了重大升級。Omni v2顯著(zhù)減少了與成像透明物體相關(guān)的點(diǎn)云偽影和錯誤并且可以比以前快約35%地生成這些高質(zhì)量的點(diǎn)云。當在高端GPU上運行時(shí),我們推薦的預設和配置的捕獲時(shí)間從490毫秒減少到約315毫秒。
  • 關(guān)鍵字: Zivid  3D  機器人  

3D DRAM進(jìn)入量產(chǎn)倒計時(shí)

  • 在 AI 服務(wù)器中,內存帶寬問(wèn)題越來(lái)越凸出,已經(jīng)明顯阻礙了系統計算效率的提升。眼下,HBM 內存很火,它相對于傳統 DRAM,數據傳輸速度有了明顯提升,但是,隨著(zhù) AI 應用需求的發(fā)展,HBM 的帶寬也有限制,而理論上的存算一體可以徹底解決「存儲墻」問(wèn)題,但該技術(shù)產(chǎn)品的成熟和量產(chǎn)還遙遙無(wú)期。在這樣的情況下,3D DRAM 成為了一個(gè) HBM 之后的不錯選擇。目前,各大內存芯片廠(chǎng)商,以及全球知名半導體科研機構都在進(jìn)行 3D DRAM 的研發(fā)工作,并且取得了不錯的進(jìn)展,距離成熟產(chǎn)品量產(chǎn)不遠了。據首爾半導體行業(yè)
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3D NAND,1000層競爭加速!

  • 據國外媒體Xtech Nikkei報道,日本存儲芯片巨頭鎧俠(Kioxia)首席技術(shù)官(CTO)Hidefumi Miyajima近日在東京城市大學(xué)的應用物理學(xué)會(huì )春季會(huì )議上宣布,該公司計劃到2031年批量生產(chǎn)超過(guò)1000層的3D NAND Flash芯片。眾所周知,在所有的電子產(chǎn)品中,NAND閃存應用幾乎無(wú)處不在。而隨著(zhù)云計算、大數據以及AI人工智能的發(fā)展,以SSD為代表的大容量存儲產(chǎn)品需求高漲,堆疊式閃存因此而受到市場(chǎng)的青睞。自三星2013年設計出垂直堆疊單元技術(shù)后,NAND廠(chǎng)商之間的競爭便主要集中在芯
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大算力芯片,正在擁抱Chiplet

  • 在和業(yè)內人士交流時(shí),有人曾表示:「要么業(yè)界采用 Chiplet 技術(shù),維持摩爾定律的影響繼續前進(jìn),要么就面臨商業(yè)市場(chǎng)的損失?!闺S著(zhù)摩爾定律走到極限,Chiplet 被行業(yè)普遍認為是未來(lái) 5 年算力的主要提升技術(shù)。戰場(chǎng)已拉開(kāi),紛爭開(kāi)始了Chiplet 不算是新的技術(shù),但是這股浪潮確實(shí)是近年來(lái)開(kāi)始火熱的。什么是 Chiplet?Chiplet 俗稱(chēng)芯粒,也叫小芯片,它是將一類(lèi)滿(mǎn)足特定功能的 die(裸片),通過(guò) die-to-die 內部互聯(lián)技術(shù)實(shí)現多個(gè)模塊芯片與底層基礎芯片封裝在一起,形成一個(gè)系統芯片,以實(shí)
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3d chiplet介紹

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